DUNK HIGH / CLOT “FLUX”
Edison Chen氏とKevin Poon氏が手掛ける香港発のファッションブランド”CLOT”との共同モデル。避けることのできない自然と時間の流れの産物である「絶え間ない変化」を受け入れるというテーマのもとに、流動性と中和を目指す陰陽の哲学を「DUNK HIGH」で表現。装飾ステッチを使用してパネルを結合させ、アッパーには特別な全面レンチキュラー素材を使用。シュータンには”NIKE × CLOT”のカスタムラベル、レンチキュラー素材に見られるようなカラーの移り変わりを導入する代わりに、どんな光源の下でも輝きを放つ、単色の液体金属のような色合いを実現しています。